CRF根據客戶的需求，還可以定制真空等離子清洗機：
        真空等離子體清洗機是一類利用等離子體無法達到傳統清洗方法的新型高科技技術。等離子體是一類物質狀態，也稱為第四種狀態。在氣體中添加足夠的能量將其分離為等離子體狀態。在等離子體中“活性”成分包括:離子、電子、活基、刺激性(亞穩態)和光子。真空等離子體清洗機利用這種活性成分的特性來處理樣品表面，從而達到清洗的目的。

       真空等離子體清洗機是一類根據工業用戶和研發用戶的需要而廣泛使用的等離子體表面處理設備。適用于等離子體清洗、激活、蝕刻等應用。該設備可在惡劣環境下穩定運行，達到高均勻性的使用效果。低溫等離子體設備是一類小型廉價的桌面等離子體清洗機，配有鉸鏈門、觀察窗和精密控制測量閥，可用于納米表面清洗和小樣品激活。
       真空等離子體清洗機采用能量轉換技術，在一定的真空負壓下，氣體通過電能轉化為高活性氣體等離子體，氣體等離子體輕輕清潔固體樣品表面，導致分子結構變化，實現樣品表面有機污染物超級清潔，在很短的時間內，有機污染物通過真空泵干燥，其清潔能力可達到分子水平。在某些情況下，樣品的表面特性也會發生變化。等離子體清洗機是一類環保的機械設備，主要用于清洗電子部件、物體表面腐蝕、等離子體涂層、等離子體涂層、等離子體灰化、表面改性等，功能強大。
        真空等離子體清洗機以氣體為清洗介質，可有效避免液體清洗介質對被清洗物體造成的二次污染。設備外部真空泵。工作時，清潔腔內的等離子體，輕輕清潔被清潔物體的表面。清洗時間短可使污染物被真空泵帶走，清洗程度可達到分子水平。