單晶硅片級(jí)和3D芯片封裝應(yīng)用等離子清洗機(jī)的很理想選擇。等離子體的應(yīng)用包括：除灰、灰化/光致防腐劑/聚合物剝離、介質(zhì)腐蝕、晶片凸起、有機(jī)物去除和晶片脫模。
        等離子清洗機(jī)功能將快速清理材質(zhì)外表的有機(jī)污物或無(wú)機(jī)污物，增加滲透性，明顯改變粘接強(qiáng)度和焊接強(qiáng)度，去除殘余物。離子過(guò)程可以輕松控制和安全重復(fù)。可以說(shuō)，有效的表面處理對(duì)增加產(chǎn)品的可靠性或過(guò)程效率非常重要。等離子清洗機(jī)也是當(dāng)前很理想的電漿外表改性材料工藝。在半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)過(guò)程中，單晶硅片芯片外表會(huì)有各種顆粒、金屬離子、有機(jī)物和殘留物等污染雜質(zhì)。為了避免污物對(duì)芯片處理性能的嚴(yán)重影響和缺陷，半導(dǎo)體單晶硅片在制造過(guò)程中需要經(jīng)過(guò)多次外表清洗步驟，而等離子體清洗機(jī)是單晶硅片光刻技術(shù)的很理想清洗設(shè)備。

        單晶硅片清洗一般分為濕法清洗和干法清洗。等離子清洗機(jī)屬于干式清洗，是單晶硅片清洗的主要方式之一。等離子清洗機(jī)主要用于去除單晶硅片外表肉眼看不見(jiàn)的外表污物。對(duì)于單晶硅片這種高科技產(chǎn)品，對(duì)顆粒的要求極高，一旦有超標(biāo)顆粒的存在都可能導(dǎo)致單晶硅片不可挽回的缺陷。等離子清洗機(jī)去除單晶硅片殘余光刻技術(shù)和BCB，分配圖型介電層，線條/光刻技術(shù)刻蝕，用于增強(qiáng)單晶硅片材質(zhì)的附著力，去除多余的塑封材質(zhì)/環(huán)氧樹(shù)脂，增強(qiáng)金焊料凸點(diǎn)的附著力，減少單晶硅片減壓破碎，增加旋涂膜附著力，清潔鋁焊盤。
       用等離子清洗機(jī)清洗后，設(shè)備外表干燥，無(wú)需再加工，可以增加整個(gè)過(guò)程的處理效率，使作業(yè)人員遠(yuǎn)離有害溶劑造成的損傷，等離子體清洗機(jī)產(chǎn)生的等離子體可以深入物體的微孔和凹陷進(jìn)行清洗，因此無(wú)需考慮被清洗物體的形狀這些優(yōu)點(diǎn)使得等離子體清洗受到廣泛關(guān)注。