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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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低溫等離子清洗,高效去除物體表面殘留物質(zhì)不產(chǎn)生二次污染


       低溫等離子清洗是一種干式工藝,由于采用電能催化反應(yīng),可以提供一個(gè)低溫環(huán)境,同時(shí)排除了濕式化學(xué)清洗所產(chǎn)生的危險(xiǎn)和廢液、穩(wěn)定、可靠、環(huán)保。簡而言之,低溫等離子清洗技術(shù)結(jié)合了等離子體物理、等離子體化學(xué)和氣固兩相界面反應(yīng),可以去除殘留在材料表面的有(機(jī))污染物,并保證材料的表面及本體特性不受影響,目前被考慮為傳統(tǒng)濕法清洗的主要替代技術(shù)。
低溫等離子清洗技術(shù)不分處理對象的基材類型,對半導(dǎo)體、金屬和大多數(shù)高分子材料均有很好的處理效果,并且能夠?qū)崿F(xiàn)整體、局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。此工藝容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化與數(shù)字化流程,可裝配高精度的控制裝置,控制時(shí)間等功能。正是由于等離子體清洗工藝擁有使用簡單、精密可控等顯著優(yōu)勢,目前已在電子電氣、材料表面改性與活化等多個(gè)行業(yè)普遍應(yīng)用。同時(shí),這種優(yōu)越的技術(shù)也將被復(fù)合材料領(lǐng)域所認(rèn)可并廣泛采用。


低溫等離子清洗的效果與特點(diǎn)
  與傳統(tǒng)的溶劑清洗不同,低溫等離子清洗機(jī)是依靠其中所包含高能物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到清洗材料表面的目的,清洗徹底,是一種剝離式清洗。其清洗優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:
(1)清洗后的材料表面沒有殘留物,并且可以通過選擇、搭配不同的氣體與等離子體混合的清洗類型,產(chǎn)生不同的清洗(效)果,滿足后續(xù)處理工藝對材料表面特性的多種需求;
(2)由于等離子體的方向性不強(qiáng),因此方便清洗帶有凹陷、空洞、褶皺等復(fù)雜結(jié)構(gòu)的物件,適用性較強(qiáng);
(3)可處理多種基材,可兼容多種類型的基材,因此特別適合清洗不耐熱和溶劑的基體材料;
(4)清洗過后無需干燥或其他工序,無廢液產(chǎn)生,同時(shí)其工作氣體排放無二次污染,綠色環(huán)保;
(5)使用簡便、易控、快捷,同時(shí)此工藝避免了大量溶劑的使用,因此成本較。

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