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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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中頻plasma清洗機(jī)在制造業(yè)中有哪些應(yīng)用

       中頻plasma清洗機(jī)采用中頻電源、中頻中頻電源、以16位微處理器為核心的四百赫茲中頻電源、電力工程電子產(chǎn)品做為電力工程輸出單元，采用了數(shù)字分頻、鎖相、波形瞬時(shí)反饋、SPWM脈沖寬度調(diào)制、igbt模塊輸出等新工藝和模塊化設(shè)計(jì)構(gòu)造，具備負(fù)荷適用性強(qiáng)、效率高、穩(wěn)定性好、輸出波形質(zhì)量好、操作簡(jiǎn)單、體積小、重量輕、智能控制、異常保護(hù)、輸出頻率調(diào)節(jié)、輸出反應(yīng)速度快、過載能力強(qiáng)、完全隔離輸出、長(zhǎng)壽命耐損傷等特點(diǎn)。中頻plasma清洗機(jī)使用的這種電源控制器。


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      典型的等離子化學(xué)清洗工藝是o2中頻plasma清洗機(jī)。電漿中的氧自由基非常活潑，很容易與烴類反映產(chǎn)生揮發(fā)性的物質(zhì)，例如CO2、CO、H20，從而去除表面的污染物。等離子體清理主要是物理反應(yīng)，又叫濺射浸蝕(SPE)或離子銑(IM)，生化學(xué)變化，清理表面不會(huì)留下氧化物，能保持被清理物體的化學(xué)純度。另一種中頻plasma清洗機(jī)的清理是表面反應(yīng)機(jī)制中的物理反應(yīng)和化學(xué)變化，即反映正離子浸蝕和反映電子束浸蝕，2種清理互相促進(jìn)，離子轟擊破壞被清理表面，削弱化學(xué)鍵，形成原子態(tài)，容易吸收反映劑，正離子碰撞加熱被清理物，容易發(fā)生反映。

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