等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗、刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來(lái)越稀薄，分子問(wèn)距及分子或離子的白由運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越長(zhǎng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

      與傳統(tǒng)使用有機(jī)溶劑的濕法清洗相比，等離子清洗具備以下幾大優(yōu)勢(shì):

      1.清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線(xiàn)的處理效率;

      2.采用無(wú)線(xiàn)電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線(xiàn)不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀。

      3.等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;

      4.等離子清洗使得用戶(hù)可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題。

      5.避免使用工氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性！

      6.等離子體清洗可以不分處理對(duì)象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等高聚物)都可以使用等離子體米處理。

      7.使用等離子清洗，避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生;

      9.在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料不身的衣面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

      8.使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn); 

      目前等離子清洗應(yīng)用越來(lái)越廣泛，國(guó)內(nèi)外的使用者對(duì)等離子體清洗的要求也越來(lái)越高。好的產(chǎn)品還需要專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持與維護(hù)。