不同的激發(fā)頻率plasma的有不一樣的性能：
        傳統(tǒng)的plasma物理清洗有N2和AR清潔。AR自身是稀有氣體，等離子體的ar不與表面產(chǎn)生反應(yīng)，而是靠離子躍遷使表面清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工序是O2等離子體清洗。根據(jù)等離子體產(chǎn)生的氧自由基很活潑，易于與碳?xì)浠衔锂a(chǎn)生反應(yīng)，產(chǎn)生CO2、CO和H2O等易揮發(fā)性，進(jìn)而去除表面的污染物。

plasma態(tài)的密度和激發(fā)頻率有如下關(guān)系：
nc=1.2425×108v2
其中nc為等離子態(tài)密度（cm-3），v為激發(fā)頻率（Hz）。
       常用的plasma激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的plasma為微波等離子體。
       不同plasma自偏壓不同。超聲等離子體的自偏壓為1萬(wàn)V射頻等離子體的自偏壓約為250V微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，三種等離子體的機(jī)制也不同。超聲等離子體的反應(yīng)是物理反應(yīng)，射頻等離子體的反應(yīng)是物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)清洗表面有很大影響，因此射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗主要用于半導(dǎo)體的實(shí)際生產(chǎn)和應(yīng)用。