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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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CRF等離子體清潔機(jī)表面改性技術(shù)改性主要優(yōu)點和有機(jī)材料中的運用

CRF等離子體清潔機(jī)表面改性技術(shù)改性主要優(yōu)點和有機(jī)材料中的運用:
       等離子體清潔機(jī)改性主要有著如下優(yōu)點:屬干式工藝,滿足當(dāng)下節(jié)能、環(huán)保的需求;對所處理材料無特殊要求,有著普遍適用性;加工時間短,僅為幾秒至幾分鐘;只對材料表層進(jìn)行改性,對基體本身不造成損壞。因而,等離子體技術(shù)與傳統(tǒng)式的改性技術(shù)對比有著不錯的運用效果。
等離子體清潔機(jī)等離子體是氣態(tài)完全或部分電離所產(chǎn)生的非凝聚機(jī)制,所謂“電離”是指至少有一個電子脫離原子或分子,從而使原子或分子轉(zhuǎn)變成帶正電荷的離子。該機(jī)制包括原子、分子、離子激發(fā)態(tài)和亞穩(wěn)態(tài)等。機(jī)制里面正負(fù)電荷總量一樣,大體上上呈電中性。等離子體技術(shù)在材料科學(xué)上的運用尤為顯著,新型材料的的研發(fā)是通過等離子體技術(shù)將其表面改性,便于達(dá)到更好的效果,這也是當(dāng)下新型材料研發(fā)的重要手段。

等離子體清潔機(jī)

      等離子體清潔機(jī)等離子體對材料表面進(jìn)行改性的環(huán)節(jié)中,一般來說通過撞擊材料表面,使材料表面原有化學(xué)鍵斷開以形成新的化學(xué)鍵。除離子外,等離子體中的大多數(shù)離子能量均超過化學(xué)鍵鍵能。這表明等離子體可以破壞材料表面的化學(xué)鍵而形成新的化學(xué)鍵。
      等離子體清潔機(jī)改性是將材料暴露在非聚合性氣體的等離子中,通過等離子體對材料表面進(jìn)行轟擊,使高分子結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,從而達(dá)到對高分子材料表面改性的目地。


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